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      鍍膜種類劃分情況

      鍍膜按類型劃分,首先可以分為:干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。

      其中干式鍍膜主要有:真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜3種



      真空蒸發(fā)鍍膜可細(xì)分為:

      電阻蒸發(fā)鍍膜(適用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料,如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等)

      電子束蒸發(fā)鍍膜(可蒸發(fā)難熔金屬,如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等)

      高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍膜(蒸發(fā)速率大,蒸發(fā)源溫度穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單,對(duì)材料純度要求較寬)

      電弧加熱蒸發(fā)鍍膜(特別適用于熔點(diǎn)高,同時(shí)具有一定導(dǎo)電性的材料,如石墨;裝置簡(jiǎn)單,較廉價(jià),缺點(diǎn)是放電產(chǎn)生的微米級(jí)顆粒會(huì)影響膜的一致性)

      激光束蒸發(fā)鍍膜(可蒸發(fā)任何高熔點(diǎn)材料)

      反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜(蒸鍍難熔化合物,如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等)

      濺射鍍膜可分為:

      直流二極濺射:僅適用于導(dǎo)電膜

      直流三極濺射:僅適用于導(dǎo)電膜

      直流四極濺射:僅適用于導(dǎo)電膜

      射頻濺射:采用射頻電源,可鍍氧化硅,氧化鋁材料

      對(duì)向靶濺射:可提高沉積速率,制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜

      離子束(IBS)濺射:利用離子源發(fā)出離子

      磁控濺射:

      碳硫分析儀在直流二極濺射的基礎(chǔ)上,在靶材后面安放了磁鋼,使用弧光發(fā)

      電,用于蒸發(fā)源。

      真空離子鍍膜可分為:

      陰極電弧離子鍍:提高了沉積速率和膜的質(zhì)量;還可生成致密均勻,附著力優(yōu)良的化合物膜

      空心陰極離子鍍:使用空心陰極等離子電子束

      多弧離子鍍

      濕式鍍膜可分四種:

      電鍍

      陽(yáng)極氧化

      化學(xué)鍍

      化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理

      
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